CVD-1200系统由开启式管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验, 适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等。
主要功能和特点：
1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，*高真空可达0.0001Pa；
2、可配合压强控制仪控制气体压力，实现负压的精准控制；
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；
4、每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性；
5、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；
6、管路采用世界*Swagelok卡套连接，不漏气；
7、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠。
主要技术参数：
YG-1206管式实验电炉 控温方式 采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。
加热元件 0Cr27Al7Mo2
工作电源 AC220V 50Hz/60Hz
额定功率 4kw
炉管材质 高纯石英管
炉管尺寸 Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
工作温度 ≤1150℃
*高温度 1200℃
恒温精度 ±1℃
恒温区 200mm
升温速度 ≤10℃/min
密封方式 不锈钢快速法兰挤压密封
ZK-F
分子泵真空系统 真空范围 0.1-0.001Pa
极限真空 4.0*10^-4Pa
产品配置 双级旋片真空泵+分子泵
测量方式 复合真空计
真空规管 电阻规+电离规
冷却方式 风冷
工作电源 AC220V 50/60HZ
抽速 110L/S
ZDFC-Ⅲ
压强控制系统 测量范围 5～1*10^-5 Pa
稳压(真空)范围 1～5*10^-3Pa
压力(真空)稳定精度） ±3%
控制范围 2.5*10^3～1*10^-4 Pa
控制精度 ± 1%
HQZ-Ⅲ
混气系统 控制方式 D07-7K质量流量计,D08流量显示仪
流量规格 0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置）
线性 ±1%F.S
准确度 ±1%F.S
重复精度 ±0.2%F.S.
响应时间 ≤2sec
耐压 3MPa
气路通道 3通道（根据客户需求）
针阀 316不锈钢
管道 Φ6mm不锈钢管
接口 SwagelokΦ6mm