功能特点：
扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺，可用于2-8英寸工艺尺寸。
★全中文windows操作界面，可编辑参数，操作方便。
★可保存多条工艺曲线，每条曲线可设置多步。
★工艺曲线的自动运行控制功能。
★自动运行中可暂停/继续运行功能。
★工艺中可强制跳到下一个工艺步运行功能。
★智能升降温斜率制功能。
★PID参数自整定功能。
★系统故障的检测与报警功能。
★智能悬臂推拉舟控制功能。
★停电后断点继续运行功能。
★工艺气体的程序控制功能（电磁阀/质量流量控制器）。
★可根据用户的特殊要求增减或开发相应的功能。

主要技术指标：
★炉管内径：¢90~¢300（2英寸~8英寸）
★恒温区长度及精度：≤1250mm±0.5（300℃~1290℃）
★控温仪表：进口高精度控温仪
★气源路数：主管道1~4路
★气体种类：N2、H2、O2、HCL等
★气源控制：MFC或浮子流量计
★推拉舟行程：*大2000mm
★推拉舟速度范围及精度：（20~1000）±2mm/min
★推拉舟方式：简易式、悬臂式、SiC硅桨式
★冷却方式：水冷+风冷
★工控机：工控机控制
设备特性：
具有多条工艺曲线，调用方便快捷；运行中，具有停电记忆功能触摸微机界面，操作方便；具有超温保护功能