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砷化镓VGF法单晶炉

产品应用:主要用于2~6英寸锗单晶、砷化镓等化合物晶体的生长 产品特点: ◆工业计算机控制系统(WINDOWS 系统界面,操作方便简洁) ◆关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性 ◆控温精度高,温区控温稳定性好 ◆具有断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能 ◆晶体生长均匀性好、重复性高 主要技术指标 ◆工作温度:600~1280℃ ◆适应晶体尺寸:2~6英寸 ◆装料量:10Kg/炉 ◆加热控制:7段控制 ◆温区长度:800mm±0.5℃(1000~1280℃) ◆*大升温速率:15℃/min ◆升降行程:900mm ◆*小升降速率(VB):0.1mm/h 配套设备:合成炉、铸锭炉、脱氧封管炉等
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青岛育豪微电子设备有限公司

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2014-4-2 12:47:42

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